智慧財產及商業法院昨（27）日針對台積電核心技術遭竊案做出重大判決。台積電前工程師陳力銘涉嫌勾結在職工程師，竊取包含2奈米及14奈米以下之國家核心關鍵技術機密，並提供給新東家東京威力科創（TEL）台灣子公司。法院一審重判主嫌陳力銘有期徒刑10年，共犯工程師及涉嫌滅證之主管亦分別獲罪；此外，東京威力科創作為法人因違反《國家安全法》被判處罰金1.5億元，創下法人涉犯該法之首例。
檢方調查指出，陳力銘原為台積電良率部門工程師，跳槽至東京威力後，為提升新公司蝕刻機台良率，於2023年間利誘清大學弟吳秉駿及同僚戈一平，利用職務之便登入內網，並由陳嫌以手機翻攝數百張機密數據照片。隨後檢調更追查出，陳嫌另勾結工程師陳韋傑竊取14奈米以下製程之關鍵氣體與設備技術。
此案涉及多項經經濟部核定之「國家核心關鍵技術」。法院審理後，除對個人判處重刑外，針對東京威力科創公司部分，判處1.5億元罰金，其中1億元支付予台積電，5000萬元上繳公庫，全案仍可上訴。此判決也為台灣半導體產業的營業秘密保護敲響警鐘。
